Parâmetros dos produtos
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Alvos de pulverização catódicaDos seguintes tamanhos são fornecidos de acordo com os requisitos do usuário |
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produtos |
Solteiro |
Pureza |
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Alvo de prato |
Menor ou igual a 200 kg/pc |
Maior ou igual a 99,95% |
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produtos |
Comprimento |
Pureza |
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Alvo de tubo |
Menor ou igual a Φ165mmΧ1000mm |
Maior ou igual a 99,95% |

Descrição dos produtos
O processo de preparação do alvo de pulverização catódica de tungstênio inclui principalmente as etapas de seleção de pó de tungstênio de alta pureza, ajuste do tamanho de partícula, mistura e homogeneização, moldagem por prensa, sinterização, processamento mecânico, tratamento de superfície e inspeção de qualidade. Cada etapa precisa de controle preciso para garantir a qualidade e o desempenho do alvo.

O tungstênio tem excelente resistência à corrosão, que pode resistir à corrosão da maioria dos ácidos e álcalis. Ao mesmo tempo, sua dureza é extremamente alta, e está localizado sob um diamante e sua superfície tem forte resistência ao desgaste. Embora a condutividade do tungstênio não seja tão boa quanto a do cobre e da prata, ele ainda mantém boa condutividade em altas temperaturas e tem alta condutividade térmica, o que pode efetivamente transferir calor. O ponto de fusão do tungstênio é 3422 graus, que é o mais alto entre todos os metais. Essa característica torna o alvo de tungstênio estável em ambientes de temperatura extremamente alta.

No processo de produção de painéis solares, um alvo de tungstênio é usado para o revestimento de pulverização catódica para formar uma camada de conversão fotoelétrica eficiente, o que melhora a eficiência das células solares e reduz o custo da energia solar, abrindo caminho para a ampla aplicação de energia renovável. Em equipamentos de imagem médica, como tomógrafos e máquinas de raio-X, o alvo de tungstênio é usado como material de ânodo, que colide com elétrons em alta velocidade sob alta voltagem usando seu alto ponto de fusão e estabilidade térmica para gerar raios-X. O uso de alvos de tungstênio melhora muito a eficiência e a clareza da tecnologia de imagem de raio-X e tem um impacto de longo alcance no diagnóstico médico. No processo de fabricação de semicondutores, o uso de alvos de tungstênio melhora a eficiência de deposição e a qualidade de filmes finos de semicondutores e suporta o rápido progresso e a tendência de miniaturização da tecnologia de semicondutores.

Em resumo, os alvos de pulverização catódica de tungstênio têm sido amplamente utilizados em muitos campos, como tratamento médico, semicondutores, painéis solares, equipamentos militares e dispositivos de aviação, e desempenham um papel importante por suas excelentes propriedades físicas e químicas.
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